Über AIXTRON

Die Basis für eine erfolgreiche Zukunft. Unsere Geschichte.

„Der Opto-Elektronik gehört die Zukunft“ – mit diesen Worten beschrieb der Physiker Dr. Holger Jürgensen seine Vision, die 1983 mit der Gründung von AIXTRON Wirklichkeit wurde: Gemeinsam mit Dr. Meino Heyen entwickelte er an der Rheinisch-Westfälischen Technischen Hochschule (RWTH) Aachen das erste MOCVD-Forschungssystem für einen Markt, der damals nicht einmal existierte.

Heute ist AIXTRON ein „Global Player“ – seit vielen Jahren eine der marktführenden Firmen. Neben unserem Hauptsitz in Herzogenrath (Deutschland) befinden sich Forschungslabore und Niederlassungen in China, Großbritannien, Schweden und den USA. Im boomenden Wachstumsmarkt Asien sind wir mit weiteren lokalen Vertriebs- und Servicebüros in Japan, Korea und Taiwan vertreten.

Bis heute spielt die ursprüngliche Begeisterungsfähigkeit der AIXTRON Gründer sowie ihr Gespür für Ideen mit Marktpotenzial eine entscheidende Rolle bei allem, was wir täglich vorantreiben.

Die Gründungsväter von AIXTRON

Im Bild die „Gründungsväter“ des Unternehmens (v.l.): Heinrich Schumann, Dr. Holger Jürgensen und Dr. Meino Heyen.

Die AIXTRON-Chronik

  • 1983 // Gründung des Unternehmens durch Mitarbeiter des Instituts für Halbleitertechnik der Rheinisch-Westfälischen-Technischen Hochschule (RWTH) Aachen – der Name AIXTRON setzt sich aus der französischen Bezeichnung für Aachen „Aix-la-Chapelle“ und „Elektronik“ zusammen.
  • 1985 // Inbetriebnahme der ersten AIXTRON MOCVD-Anlage.
  • 1988 // Auszeichnung mit dem „Innovationspreis der deutschen Wirtschaft“.
  • 1989 // Exklusive Lizenz von Philips für die Planetary Reactor-Technologie.
  • 1990 // Auslieferung der ersten MOCVD-Multi-Wafer-Anlage.
  • 1994 // Erste Depositionsanlage zur Herstellung von blauen LEDs.
  • 1997 // Börsengang: Die Aktien werden erstmals an der Frankfurter Wertpapierbörse (TecDAX®) gehandelt.
  • 1999 // Übernahme der Thomas Swan Scientific Equipment Division, heute AIXTRON Ltd., und damit des gesamten MOCVD-Anlagen- und Servicegeschäfts des Unternehmens, basierend auf der Close Coupled Showerhead-Technologie.
  • 1999 // Übernahme der schwedischen EPIGRESS AB, heute AIXTRON AB, und Erweiterung des Portfolios um die SiC CVD-Technologie.
  • 2005 // Erwerb der Genus, Inc. (USA) im März und damit Integration einer weiteren Abscheidungstechnologie (ALD) für die Silizium- und die Datenspeicherindustrie in das Portfolio. Heute AIXTRON Inc. in Sunnyvale/CA.
  • 2007 // Übernahme der Nanoinstruments Ltd. (UK) und Erweiterung des Produktportfolios im Bereich Nanotechnologie (PE)CVD, integriert in die AIXTRON Ltd., UK.
  • 2010 // Inbetriebnahme des hochmodernen F&E-Zentrums mit 16.000 m2 Nutzfläche in Herzogenrath.
  • 2010 // Die neuesten Anlagengenerationen G5 und CRIUS II werden auf den Markt gebracht.
  • 2011 // Auslieferung der 2.000sten AIXTRON MOCVD-Anlage an Changelight Co., Ltd. 
  • 2011 // AIXTRON bietet mit der CRIUS II-XL die Produktionsanlage mit der größten Waferkapazität an.
  • 2012 // Im März Eröffnung des Training Center & Lab in Suzhou, China.
  • 2013 // Der AIX G5+-Planetenreaktor für GaN-auf-Si wird mit dem CS Industry Award und dem Aurora Award ausgezeichnet.
  • 2013 // 30 Jahre Zukunftstechnologie: AIXTRON feiert 30-jähriges Jubiläum.
  • 2014 // AIXTRON führt die neue Showerhead-Anlage AIX R6 zur Massenproduktion von LEDs ein  
  • 2015 // Übernahme des US-amerikanischen Verkapselungsspezialisten PlasmaSi zur Herstellung von OLED-Displays (TFE)
  • 2017 // Verkauf der ALD/CVD-Produktlinie für Speicherchips

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