DEPOSITIONSANLAGE FÜR VERBINDUNGSHALBLEITER

AIX 2800G4-TM (IC2)

“Die beste Anlage für die Massenproduktion von GaAs/InP-basierten Optoelektronik- und RF-Anwendungen“

Vorteile

  • Beste Kontrolle der Abscheidung - auf Wafer-Ebene
  • Niedrigste Partikelanzahl
  • Höchste Produktausbeute
  • Niedrigste Produktionskosten

Produkteigenschaften

  • Einzigartiger horizontal durchströmter Planetenreaktor - integriert beste Gleichmäßigkeit und höchsten Wirkungsgrad
  • Prozesskammer aus Graphit – sehr geringe Partikelanzahl und höchste Wiederholungsleistung
  • Dreifache Prozessgaseinspritzung - Maximale Ausbeuteoptimierung
  • Einzelrotation der Wafer – Kombination der Produktivität einer Mehrscheiben-Prozesskammer mit der Abstimmbarkeit einer einzelnen Prozesskammer
  • Automatisierte Satellitenbeladung bei hohen Temperaturen - Höchster Durchsatz, niedrigste Partikelanzahl

Konfigurationen

  • 15x4 Zoll
  • 8x6 Zoll

AIX 2800G4-TM (IC2)

Ihr Ansprechpartner

Marketing

Vincent Meric

Vice President Marketing

Service

AIXTRON SE (Headquarters)

AIXTRON 24/7 Technical Support Line

AIXTRON Europe

AIXTRON Ltd (UK)

AIXTRON K.K. (Japan)

AIXTRON Korea Co., Ltd.

AIXTRON Taiwan Co., Ltd. (Main Office)

AIXTRON Inc. (USA)

Produkte

Vincent Meric
Vice President Marketing

Karriere

Laura Preinich
Recruiter

Tom Lankes
Talent Acquisition Expert - Ausbildungsleitung

Nachhaltigkeit 

Christoph Pütz
Senior Manager ESG & Sustainability

Unternehmen & Investor Relations

Christian Ludwig
Vice President

Ralf Penner
Senior IR Manager

Forschung & Entwicklung

Prof. Dr. Michael Heuken
Vice President Advanced Technologies

Presse & Öffentlichkeitsarbeit

Ragah Dorenkamp
Director Corporate Communications