DEPOSITIONSANLAGE FÜR VERBINDUNGSHALBLEITER

AIX G5+ C

“Hochmoderner Planetenreaktor steigert Produktivität und Wafer-Leistung”

Vorteile

  • Ausgewählt von den besten Unternehmen der Branche
  • Höchster Durchsatz
  • Niedrigste Betriebskosten
  • Höchste Ausbeute
  • Erste vollautomatisierte MOCVD-Anlage mit Cl2 in-situ Reinigung und Cassette-to-Cassette Wafer-Handler

Produkteigenschaften

  • Kostenvorteile eines Batch-Reaktors kombiniert mit der einzigartigen achsensymmetrischen On-Wafer-Gleichförmigkeit eines Einzelwafer-Reaktors in Bezug auf:
    • Waferkrümmung
    • Schichtdicke, Materialzusammensetzung, Dotier-Konzentration
    • Bauelement-Ausbeute
  • Warme Kammerdecke ergibt niedrigsten Wärmefluss durch Wafer
    • Minimierte Waferkrümmung durch minimalen vertikalen Temperatur-Gradienten
    • Ermöglicht den Einsatz von Si-Wafern mit Standarddicke
  • Wafer-Temperaturoptimierung durch kundenspezifisches Design der Substrattaschen

Konfigurationen

  • 8x150 mm
  • 5x200 mm

AIX G5+ C - Reaktormodul mit Cassette-to-Cassette-Waferhandler

Ihr Ansprechpartner

Product Management

Dr. Jens Voigt

Director