F) Device Understanding and Correlation to Epitaxial Growth

Durchschnittliche Trainingsdauer: 2 Tage

Zugangsvoraussetzungen:

  • Level C, D oder E
  • Alternativ: Bachelor-/Masterabschluss mit Hauptfach Physik, Elektrotechnik oder Werkstoffwissenschaft
  • Alternativ: Prozessingenieur für MOCVD-Anlagen
  • Alternativ: Gleichwertige Fähigkeiten oder Erfahrungen mit MOCVD

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