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Pressemeldungen

Hier finden Sie aktuelle Meldungen. Sie benötigen Informationen, um einen Beitrag über AIXTRON zusammenzustellen? Gerne stellen wir Ihnen Material zur Verfügung.

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Zeitraum
11. April 2011 | Pressemeldungen

AIXTRON verkauft erste 300 mm Graphen-Anlage an AIST

Das japanische National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST) hat die erste 300 mm Black Magic-Anlage für die Abscheidung von Graphen bestellt. Graphen ist aufgrund seiner einzigartigen Eigenschaften ein vielversprechendes Kanalmaterial für die Herstellung von Mikroelektronik und Hochfrequenzanwendungen der nächsten Generation.

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05. April 2011 | Pressemeldungen

TU Eindhoven produziert modernste Nanodrähte mit AIXTRON CCS-Anlage

Die Technische Universität (TU) Eindhoven in den Niederlanden hat im vierten Quartal 2010 eine 3x2-Zoll Close Coupled Showerhead MOCVD*-Anlage bestellt. Die Anlage soll für die Herstellung von Galliumarsenid- und Indiumphosphid-basierten Nanodrähten, Nitriden sowie Silizium-Halbleitern eingesetzt werden.

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31. März 2011 | Pressemeldungen

PARC produziert InGaAlN-Laser und LEDs mit AIXTRON CCS

PARC – ein Xerox-Unternehmen mit Sitz in Palo Alto, Kalifornien, USA – hat eine Close Coupled Showerhead MOCVD*-Anlage von AIXTRON bestellt. Die Anlage umfasst das vollständige Leistungsspektrum, wie das In-Situ Multi-Channel-Pyrometer ARGUS, hohe Wachstumtemperaturen sowie einstellbare Reaktorhöhe, die optimale Bedingungen für die Herstellung von (Al)GaN** in einem weiten Druckbereich ermöglicht.

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17. März 2011 | Pressemeldungen

Beiji Haotian Technology steigert Hochleistungs-LED-Kapazitäten mit AIXTRON G4- und G5-Anlagen

Ein neuer Kunde der AIXTRON SE, Beiji Hatioan Technology Co., Ltd. aus der chinesischen Provinz Jiangsu, hat im zweiten Quartal 2010 fünf MOCVD-Anlagen bestellt. Es handelt sich dabei um zwei 42x2-Zoll AIX 2800G4 HT-Anlagen sowie drei 56x2-Zoll AIX G5 HT-Anlagen. Die MOCVD*-Anlagen werden im Laufe des ersten und zweiten Quartals 2011 ausgeliefert und für die Herstellung von LED-Hochleistungs-Chips eingesetzt.

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10. März 2011 | Pressemeldungen

Centre de Recherche Public Luxemburg und AIXTRON SE erforschen neuartige Polymer-Dünnfilme

Dr. Damien Lenoble leitet den Forschungsbereich für Nanomaterialien am CRP und kommentiert: „Wir haben die PVPD-Forschungsanlage von AIXTRON aufgrund ihrer vielfältigen Einsatzmöglichkeiten ausgewählt. Das modulare, erweiterbare Konzept wird unser Vorhaben, Prozesse für ein großes Spektrum polymerer Materialien zu entwickeln, erfolgreich unterstützen. Durch die skalierbare Close Coupled Showerhead-Technologie werden wir über Anwendungen der Forschung hinaus auch an industriellen Produktionsverfahren arbeiten. AIXTRON bietet eine große Bandbreite an Lösungen zur Abscheidung funktionaler Dünnfilme – ein weiterer Grund für unsere Entscheidung."

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08. März 2011 | Pressemeldungen

Finisar Corporation produziert VCSEL nächster Generation mit AIXTRON MOCVD-Technologie

Das US-amerikanische Unternehmen Finisar Corporation mit Sitz in Sunnyvale, Kalifornien hat eine AIX 2800G4-R MOCVD*-Anlage von AIXTRON bestellt. Finisar stellt faseroptische Subsysteme und Komponenten für Kommunikationsanwendungen her.

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