21. April 2011 | Pressemeldungen

AIXTRON CRIUS II in Taiwan qualifiziert

Die Chi Mei Group mit Sitz in Südtaiwan hat AIXTRONs aktuelle Close Coupled Showerhead MOCVD*-Plattformanlage CRIUS II erfolgreich für die Massenproduktion qualifiziert. Die Anlage übertraf die Erwartungen im Hinblick auf Prozessstabilität, Homogenität und Durchsatz.

Chi Mei war der erste Kunde in Taiwan, an den die CRIUS II geliefert wurde. Ein Service Team von AIXTRON Taiwan hatte die 55x2-Zoll-Anlage in einer Produktionsstätte in der Nähe des Southern Taiwan Science Park installiert und in Betrieb genommen. Die Teams beider Unternehmen arbeiteten anschließend eng zusammen, um den Qualifizierungsprozess zu beschleunigen.

Der Transfer von der bestehenden CRIUS auf die CRIUS II sei reibungslos verlaufen, sagte ein Vertreter von Chi Mei. Er nannte insbesondere die außergewöhnliche Übertragbarkeit von Prozessen mittels einfacher Flächenskalierung als eine herausragende Eigenschaft der Close Coupled Showerhead-Technologie. Nach der erfolgreichen Qualifizierung ist der Hersteller nun in der Lage, seine komplette HB-LED**-Produktreihe mit der bisher kürzesten Vorlaufzeit auf den Markt zu bringen.

Die CRIUS II erreicht in kurzer Zeit maximale Leistungsfähigkeit. Auch der Schritt von 2-Zoll auf 4- bzw. 6-Zoll-Wafer kann ohne Weiteres durchgeführt werden – eine wichtige Voraussetzung bei der Herstellung Galliumnitrid-basierter LEDs. Durch den Einsatz größerer Wafer lassen sich die Produktionskosten deutlich senken, daher ist die CRIUS II die ideale Wahl, um die Produktivität bei der Herstellung sehr heller LEDs zu steigern. Im Vergleich zur Vorgängeranlage wurde die Reaktorkapazität von 31x2- auf 55x2-Zoll vergrößert. Optional kann die Reaktorkammer der CRIUS II auch 13x4-Zoll Wafer aufnehmen.

* MOCVD, Metal Organic Chemical Vapor Deposition = Metall-organische Gasphasenabscheidung
** HB-LEDs, Hight Brightness LEDs = Sehr helle LEDs

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®

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