30. Oktober 2015 | Verbindungshalbleiter

SSL China: AIXTRON präsentiert auf Leitmesse aktuelles Technologieportfolio für die Halbleiterproduktion

Innovative Anlagentechnologie für die Herstellung von LEDs und Leistungselektronik sowie zur OLED- und Graphen-Produktion im Fokus

AIXTRON SE (FSE: AIXA; NASDAQ: AIXG), ein weltweit führender Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, präsentiert im Rahmen des Seminars „Innovative MOCVD Solutions for Ground-Breaking Business Ideas“ zentrale Technologie-Lösungen für die aktuellen und zukünftigen Herausforderungen in der Halbleiterindustrie. Dabei stehen vor allem die MOCVD-basierten Lösungen für die Herstellung von LEDs und Leistungselektronik sowie die Anlagentechnologie für die Produktion von OLEDs und Graphen im Mittelpunkt.

AIXTRON informiert unter anderem  über die inzwischen von Kunden bestätigten Eigenschaften und Vorteile der AIX R6 Close Coupled Showerhead-Anlage, die für die großvolumige LED-Produktion entwickelt wurde. Nach ausführlichen Testzyklen bei verschiedenen Kunden, stellt AIXTRON die Ergebnisse der Leistungsfähigkeit sowie Belege für die Effizienz- und Kostenvorteile der Anlage vor.

Die Herstellung von LEDs auf 200 mm Siliziumsubstraten wie auch das Marktpotenzial von tief ultravioletten LEDs bilden weitere Schwerpunkte des Seminars. Beide Produkte werden aus Sicht von AIXTRON in den kommenden Jahren zunehmend das Interesse von Herstellern auf sich ziehen und aufgrund der fortschreitenden Technologieentwicklung in immer mehr Anwendungen zum Einsatz kommen. AIXTRON stellt hierfür schon heute die notwendigen Forschungs- und Produktionsanlagen zur Verfügung und gibt in diesem Seminar anhand eines Erfahrungsberichts von Dr. Jun-Youn Kim (Samsung Electronics) unter anderem detailliert Auskunft über die Leistungsfähigkeit der AIX G5+ zur Herstellung von LEDs auf 200 mm Siliziumsubstraten.

Auch die Leistungselektronik gewinnt in der Halbleiterindustrie aufgrund vielfacher Anwendungsmöglichkeiten zunehmend an Bedeutung. Informationen zu den aktuellen Produktionstechnologien von AIXTRON sowie ein Erfahrungsbericht von Dr. Kai Cheng (Enkris Semiconductors) zur Herstellung von Leistungselektronikbauteilen auf Basis von Galliumnitrid auf Silizium (GaN-on-Si) geben Besuchern  des AIXTRON-Seminars einen exzellenten Überblick über den aktuellen Entwicklungsstand.

Erstmals stellt AIXTRON im Rahmen der diesjährigen SSL China auch den aktuellen Stand seiner Aktivitäten im Bereich der OLED- und Graphenproduktion vor. Als Markt- und Technologieführer kann AIXTRON auf eine exzellente Leistungsbilanz verweisen.

Besuchen Sie im Rahmen der SSL China das Seminar „Innovative MOCVD Solutions for Ground-Breaking Business Ideas“ und informieren Sie sich über die neuesten Entwicklungen in der Anlagentechnologie:

2. November 2015, 13:30-17.15 Uhr

Shenzhen Convention & Exhibition Center
6. Etage, Osmanthus Hall

Fuhua 3rd Road, Futian District, Shenzhen, 518048 China

Die Anmeldung für das Seminar erfolgt über das Veranstaltungsbüro der China SSL:

Liu Hui (T:+86-10 82387600–509, E:E-Mail senden)

Zhang Yaqin (T:(86-10)82387600–655, E:E-Mail senden)

 

Weitere Einzelheiten zur Veranstaltung sowie die Agenda des Seminars finden Sie unter dem Link http://www.sslchina.org/Schedule/Details/p501 oder unter www.aixtron.com.

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Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®

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