TECHNOLOGIEN

Plasma-Chemical Vapor Deposition (PE)CVD

AIXTRONs einzigartige plasmagestützte Depositionstechnologie ermöglicht einen sehr flexiblen Prozess. Damit können verschiedene Nanomaterialien hergestellt werden. Das Plasma ergänzt den Dünnfilmbeschichtungsprozess und bietet somit die Grundlage zur Synthese von nahezu allen möglichen Varianten und Formen von Graphen, Kohlenstoff-Nanoröhren und –Drähten. Zudem können die Prozesstemperaturen reduziert und verschiedene Oberflächen vorbereitet werden.