AIXTRON erreicht wichtigen Meilenstein auf dem Weg zur Produktion großformatiger OLEDs

AIXTRON SE (FSE: AIXA; NASDAQ: AIXG), ein weltweit führender Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie, hat mit seiner neuen OVPD-Demonstrationsanlage OLAD (Organic Large Area Demonstrator) einen wichtigen Meilenstein erreicht. Nach mehrmonatiger interner Testphase mit zum Teil herausragenden Ergebnissen, steht die Anlage nun für erste Kundentests zur Verfügung.

Ziel von AIXTRON ist es, mit OLAD die für Kunden relevanten Parameter in industrienaher Umgebung zu demonstrieren. Dazu wurden die von AIXTRON speziell für den OVPD-Prozess entworfenen proprietären Kernelemente für Substratgrößen der Generation 8.5 (2250 mm x 2500 mm) skaliert, optimiert und in Zusammenarbeit mit der Manz AG in eine Prozesskammer entsprechender Größe integriert. In diesem Zusammenhang optimierte AIXTRON auch seine eigene Quellentechnologie STExS™ (Short Thermal Exposure Source), so dass damit die je nach Substratgröße und Bedarf exakt dosierten Materialmengen schnell und materialschonend in die Gasphase gebracht werden können.

Im Vergleich zur konventionellen Vakuumverdampfung VTE (Vacuum Thermal Evaporation) bietet diese Quellentechnologie darüber hinaus die Möglichkeit, die Verdampfung innerhalb weniger Sekunden zu starten und nach der Verarbeitung eines Substrats wieder zu stoppen. In Verbindung mit den bereits erreichten Depositionsraten von mehr als 50 Ångström/Sekunde (Å/Sec) lassen sich auf diese Weise sehr kurze Taktzeiten bei gleichzeitig geringstmöglichem Materialverbrauch realisieren.

Eine Schlüsselrolle spielt daneben die Showerhead-Technologie von AIXTRON, die im Rahmen des OVPD-Prozesses zum Einsatz kommt. Auch sie wurde für die Demonstrationsanlage auf die entsprechende Größe skaliert und ermöglicht damit im Gegensatz zur Vakuumverdampfung eine flächige Abscheidung der organischen Schichten. Die dafür notwendigen Materialflüsse werden bei dem OVPD-Prozess von der STExS-Quellentechnologie bedient. Eine STExS-Quelle verdampft dazu bei einer effektiven Depositionsrate von 50 Å/Sec etwa 40 Milligramm pro Sekunde. Das patentierte Design stellt gleichzeitig sicher, dass die empfindlichen und teuren Organik-Materialien dabei äußerst schonend behandelt werden. Die bereits durchgeführten Tests bestätigen eine sehr effiziente Materialausnutzung von deutlich über 70 Prozent, was im Vergleich zum VTE-Verfahren eine erhebliche Verbesserung darstellt und dem Ziel, die Produktionskosten in der OLED-Fertigung drastisch zu senken, Rechnung trägt.

Die bereits angelaufenen Kundendemos ermöglichen es OLED-Herstellern nun erstmals, das für die Produktion organischer Leuchtdioden auf Basis der OVPD-Technologie mögliche Kostensenkungspotenzial in einer industriell relevanten Größenordnung detailliert zu ermitteln.

„Das Erreichen der Demonstrationsfähigkeit unserer OLAD-Anlage ist ein wichtiges Zwischenziel auf dem Weg zu einer effektiven und effizienten OLED-Produktion. Wir freuen uns, dass wir unseren Kunden aus der Industrie nun eine Technologie anbieten können, die in dieser Hinsicht alle Anforderungen erfüllt. OLAD ist ein weiterer Beleg für die Innovationskraft von AIXTRON und bestätigt einmal mehr die Fähigkeiten unseres Unternehmens komplexe Technologien erfolgreich zur Marktreife zu führen“, sagt Martin Goetzeler, Vorstandsvorsitzender der AIXTRON SE.

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Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®