29. November 2011 | Verbindungshalbleiter

Win Semiconductors steigert Produktionskapazitäten mit weiteren AIXTRON Anlagen

AIXTRON Kunde WIN Semiconductors, einer der führenden Hersteller von Hochfrequenzbauelementen in Taiwan, hat zwei neue MOCVD-Anlagen erworben. Es handelt sich um eine weitere AIX 2600G3 in einer 7x6-Zoll-Konfiguration sowie erstmals auch um eine AIX 2800G4 in einer 8x6-Zoll-Konfiguration. Mit den neuen Anlagen sollen verschiedene Hochleistungsbauelemente für die Massenproduktion entwickelt werden.

Die Anlagen werden im vierten Quartal 2011 ausgeliefert und von einem Serviceteam von AIXTRON Taiwan in Win Semiconductors´ Betriebsstätte in Kuei Shan Hsiang installiert und in Betrieb genommen.

Laut Aussage des taiwanesischen Herstellers ist vor allem der Neuerwerb der G4 von besonderer Relevanz für die weitere Geschäftsentwicklung. Ziel sei es, den Produktionsdurchsatz zu steigern. Aufgrund der sehr guten Erfahrungen mit AIXTRON Systemen – insbesondere im Hinblick auf deren Zukunftsfähigkeit – habe man sich neben der G3 auch für den neueren Anlagentyp entschieden. „Die G4 liefert neben größerer Waferkapazität maximale Leistungsfähigkeit. Außerdem profitieren wir von ihrem ergonomischen Design, ihrer Vielseitigkeit und der einfachen Übertragbarkeit von Prozessen der bereits vorhandenen Reaktoren", so Win Semiconductors. AIXTRON garantiere verlässliche und hochwertige Technologie sowie kompetenten Service.

Win Semiconductors entwickelt, produziert und vertreibt Hochfrequenzchips auf Galliumarsenidbasis und hat als eines der ersten Unternehmen Taiwans die Marktchancen für Solarzellen aus Verbindungshalbleitern für terrestrische Anwendungen erkannt. 2007 hatte der Hersteller eine nur für diesen Zweck bestimmte AIX 2600G3 IC Epitaxieanlage von AIXTRON erworben und damit sein Portfolio um die Herstellung von Solarzellen erweitert.

Unsere eingetragenen Warenzeichen: AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level Solutions®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, EXP®, EPISON®, Gas Foil Rotation®, Optacap™, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, STExS®, Trijet®

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