DEPOSITIONSSYSTEM FÜR 2D-NANOMATERIALIEN

BM NOVO LITE

"F&E-Anlage für 2D-Materialien"

Vorteile

  • Gleichmäßige Abscheidung von 2D-Materialien (TMDCs, h-BN, u.a.) auf Wafer- und Foliensubstraten
  • Zweikanal-Showerhead für höhere Effizienz
  • Plasma Showerhead-Technologie für Prozessflexibilität
  • Temperaturen bis 1050 °C
  • Bis zu 3 metallorganische Quellen

Produkteigenschaften

  • Wärme- und plasmagestützte CVD-Kaltwandtechnologie
  • Kleiner Fußabdruck
  • Remote und Substrat-Plasma Unter- und Oberheizungstechnologie
  • Bis zu 7 Gasquellen
  • Automatische Prozesskontrolle mit bewährten Rezepturen
  • Management- und Berichtsinstrumente für mehrere Nutzer
  • Sicherheitssystem mit vollständiger Messdatenerfassung

Substratgröße / Konfigurationen

  • Bis zu 6 Zoll Substratgröße
  • Extra-Durchführungsschnittstellen für in-situ-Monitoring
  • Zuführung flüssiger Ausgangsstoffe
  • Turbo-Pumpensystem

BM NOVO LITE

Ihr Ansprechpartner

Product Management

Dr. Jens Voigt

Director