DEPOSITIONSANLAGEN FÜR 2D-NANOMATERIALIEN

BM NOVO

"Führende F&E-Anlage für 2D-Materialien"

Vorteile

  • Gleichmäßige Abscheidung von 2D-Materialien (TMDCs, h-BN, u.a.) auf Wafer- und Foliensubstraten
  • Glovebox-System für sensible Materialien und größtmögliche Nutzersicherheit
  • Zweikanal-Showerhead für effizienzverbesserte Plasma-Showerhead-Technologie für Prozessflexibilität
  • Entlüftungsleitungen für schnelles Umschalten zwischen den Vorstufen für maximale Kontrolle über die Handhabung der Ausgangsstoffe
  • Bis zu 8 metallorganische Quellen
  • Temperaturen bis 1050 °C
     

Produkteigenschaften

  • Modulare wärme- und plasmagestützte CVD-Kaltwandanlage
  • Bis zu 10 Gasquellen
  • Remote und Substrat-Plasma
  • Automatische Prozesskontrolle mit bewährten Rezepturen
  • Management- und Berichtsinstrumente für mehrere Nutzer
  • Sicherheitssystem mit vollständiger Messdatenerfassung

Substratgrößen / Konfigurationen

  • bis 4 Zoll
  • Turbo-Pumpensystem
  • In-situ-Optionen verfügbar

BM NOVO

Ihr Ansprechpartner

Product Management

Dr. Jens Voigt

Director