DEPOSITIONSANLAGE FÜR KOHLENSTOFF-NANOMATERIALIEN

BM 300T

“Die Referenzanlage der Industrie für Ihre Produktionsanforderungen”

Vorteile

  • Gleichmäßige Abscheidung von Graphen und Kohlenstoff-Nanoröhren auf 300 mm Wafern
  • Wärme- und plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (CVD) für Prozessflexibilität
  • 3-Zonen-Substratbeheizung, max. Temperatur 1050 °C
  • Unabhängiger 3-Zonen-Heizer oben
  • Vergleichbar mit Mehrfach- oder Einzelwafer-Transfermodul

Produkteigenschaften

  • Showerhead-basierte Technologie
  • Substrat-Rotation
  • Automatische Prozesskontrolle mit bewährten Rezepturen
  • Management- und Berichtsinstrumente für mehrere Nutzer
  • Sicherheitssystem mit vollständiger Messdatenerfassung

Substratgrößen / Konfigurationen

  • 300 mm- (12 Zoll-) oder 8 Zoll-Wafer
  • Zuführung flüssiger Ausgangsstoffe
  • Extra-Schnittstellen/-Durchführungen für in-situ-Analyse

BM 300T

Ihr Ansprechpartner

Product Management

Dr. Jens Voigt

Director