Planetary Reactor oder Showerhead-Konzept - Hochleistung für unsere MOCVD-Anlagen.

MOCVD, Verbindungshalbleiter

Kerntechnologie für vielfältige Prozesse.

5x200 mm Epi Wafer in AIX G5+ Reaktor

MOCVD, GaN-auf-Si

Hier entsteht Spitzentechnologie für die Zukunft.

(PE)CVD, Graphen und Kohlenstoff-Nanomaterialien

In Technologie investieren.

OVPD und PVPD, organische Halbleiter

Optimale Lösungen für die Märkte.

ALD, Siliziumhalbleiter

AIXTRON bietet wegweisende Schlüsseltechnologien.

MOCVD, Verbindungshalbleiter

Materialklassen

AIXTRON bringt innovative Technologien in ausgereiften Anlagen auf den Markt. Wir sind spezialisiert auf drei strategische Anwendungsmärkte, in denen unsere führenden Technologien zur Materialbeschichtung zum Einsatz kommen: Verbindungshalbleiter, organische Halbleiter und Siliziumhalbleiter.

Verbindungshalbleiter

Unser Produkt-Portfolio umfasst im Bereich Verbindungshalbleiter MOCVD-Produktions- und Forschungsanlagen mit dem Planetary Reactor- oder Close Coupled Showerhead-Konzept zur Herstellung von LEDs, Solarzellen und Leistungselektronik.

Erfahren Sie mehr über unsere Technologien:

Siliziumhalbleiter

AIXTRON bietet im Bereich Siliziumhalbleiter zwei Prozess-Technologien an. Für die Produktion von Logikchips, DRAM-, eDRAM-, Flash- und MIM-Speichern sowie Dünnschichtleseköpfen steht die Atomic Layer Deposition (ALD) und die Chemical Vapor Deposition (CVD) zur Wahl.

Erfahren Sie mehr über unsere Technologien:

Organische Dünnschichten

Für die kontrollierte Abscheidung sowohl sogenannter kleiner Moleküle, die insbesondere für Materialsysteme zur Erzeugung organischer Leuchtdioden (OLEDs) von besonderem Interesse sind, als auch zur kontrollierten Abscheidung polymerbasierter Schichtsysteme, bietet AIXTRON revolutionäre Depositionstechnologien an.

OVPD (Organic Vapor Phase Deposition) ist eine innovative Technologie für die Dünnschichtabscheidung von organischen „kleinen Molekülen“ basierend auf dem Prinzip des Gasphasentransports.

PVPD (Polymer Vapor Phase Deposition) ist eine Technologie für die kontrollierte Abscheidung und In-situ-Vernetzung von polymerbasierten Dünnschichtstrukturen.

Vorteile in Bezug auf Prozesskontrolle, Reproduzierbarkeit und Betriebskosten

Diese patentierten Verfahren haben gegenüber konventionellen Technologien wesentliche Vorteile in Bezug auf Prozesskontrolle, Reproduzierbarkeit und Betriebskosten.

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Nanomaterialien: Unvorstellbar klein mit riesigem Nutzen

AIXTRONs Produkt-Portfolio umfasst auch Anlagen für die Deposition von Kohlenstoff-Nanomaterialien. Sie beruhen auf Nanoinstruments „BM“-Technologie und verwenden sowohl thermische CVD-, als auch plasmagestützte Prozesse. Dadurch können nahezu alle möglichen Varianten und Formen von Kohlenstoff-Nanoröhren/-drähten und Graphen hergestellt werden.

Erfahren Sie mehr über unsere Technologie:

Unsere eingetragenen Warenzeichen

AIXACT®, AIXTRON®, Atomic Level SolutionS®, Close Coupled Showerhead®, CRIUS®, Gas Foil Rotation®, OVPD®, Planetary Reactor®, PVPD®, TriJet®