|
Press
Release
Ruhr-Universität Bochum entscheidet sich für
Atomic Vapor Deposition (AVD®)
Aachen / Bochum, 4. Oktober, 2004 - AIXTRON AG (FSE: AIX; ISIN DE0005066203), ein führender
Anbieter von Epitaxieanlagen für Verbindungs-Halbleiter, gab heute den Verkauf
eines Entwicklungsreaktors an die Ruhr-Universität Bochum bekannt, der die
Schlüsselkomponenten der Atomic Vapor Deposition (AVD®)-Technologie von AIXTRON
enthält.
Das System wird für die Entwicklung von neuen Ausgangsstoffen für die Abscheidung von high-k
Dielektrika und hochentwickelten Elektrodendünnschichten sowie für die Charakterisierung der
physikalischen Eigenschaften solcher Schichten eingesetzt. Das AIX 200FE-System wird in den
Reinräumen des Instituts für anorganische Chemie II unter der Leitung von Professor
Dr. Roland A. Fischer und Jun. Prof. Dr. Anjana Devi installiert. Seine Gruppe arbeitet
gezielt an der Entwicklung neuer metallorganischer Ausgangsstoffe sowie der Erforschung
ihrer Eignung für verschiedene Methoden der Gasphasenabscheidung. Die Ruhr-Universität
und AIXTRON haben einen Laborvertrag für Forschung und Demonstration abgeschlossen, wonach
beide Seiten gemeinsam an der Entwicklung metallorganischer Ausgangsstoffe für high-k
Dielektrika und Elektrodenmaterialien sowie an der Verwendung dieser Stoffe bei einem
AVD®-Dünnschichtabscheidungs-Prozess arbeiten werden.
Die Hauptanwendungen für high-k Dielektrika und hochentwickelten Elektrodenmaterialien
sind CMOS-Transistoren, dynamische Speicher (DRAMs) und integrierte Kondensatoren.
High-k Materialien dürften Siliziumdioxid als isolierendes Steuer-Dielektrikum ablösen
und eine höhere Transistorleistung bei deutlich reduziertem Leckstrom ermöglichen.
Gleichzeitig dürften Elektrodenmaterialien Polysilizium als Steuerelektrode im Transistor
ersetzen. Dadurch lässt sich die Transistorgröße weiter jenseits der Siliziumstrukturgröße
von 65 nm verringern. Praktisch die gleichen High-k und Elektrodenmaterialien werden in
künftigen kapazitiven Strukturen für DRAM- und Hochfrequenz-Schaltkreisen verwendet. Mit
diesen Materialien können die erforderlichen Kondensatorgrößen in kleineren Dimensionen
erstellt werden, was eine größere Dichte der integrierten Schaltkreise ermöglicht und die
Massenproduktionskosten deutlich senkt.
Das AIX 200FE-System ist mit AIXTRONs neuester Atomic Vapor Deposition Technologie für
High-k und Elektrodenschichten auf kleinen Wafern für die Grundlagenforschung und
die Prozessentwicklung ausgestattet. Es beinhaltet das präzise gesteuerte TriJet®
System zur Injektion von flüssigen Ausgangsstoffen und deren kontaktloser Verdampfung.
Das Trijet® System ermöglicht eine simultane gepulste Injektion von bis zu
vier verschiedenen metallorganischen Ausgangsstoffen in das System. Es handelt sich um
das flexibelste Einbringungssystem für CVD-Ausgangsstoffe auf dem Markt, das zudem
die Abscheidung von Mehrkomponentenschichten mit einer in-situ stöchiometrischen
Kontrolle durchführen kann. AIXTRON setzt die TriJet®-Komponente ebenfalls
erfolgreich in seinen Tricent®-Produktionssystemen für die AVD®
von High-k, Elektroden- und ferroelektrischen Materialien auf großen
Siliziumwafern ein.
Über AIXTRON
AIXTRON AG (FSE: AIX; ISIN DE0005066203) ist ein führender Anbieter von
Epitaxieanlagen für Verbindungs-Halbleiter. Die Produkte der Gesellschaft werden
von einem breiten Kundenkreis weltweit genutzt, um leistungsstarke Halbleiter-Bauelemente
wie HBTs, PHEMTs, MESFETs, Laser, LEDs, Detektoren und VCSELs
herzustellen. Diese Bauelemente werden in Glasfaser-Kommunikationsnetzen, den
mobilen Telefonie-Anwendungen, der optischen Datenspeicherung, der Beleuchtungs-,
Signal- und Lichttechnik sowie einer Reihe von anderen High-Tech-Anwendungen
eingesetzt. Die Aktie der AIXTRON AG ist im Prime Standard der Frankfurter
Wertpapierbörse notiert und im TecDAX sowie im MSCI World Index vertreten. Weitere
Informationen über AIXTRON finden Sie im Internet unter
www.aixtron.com.
|
Forward-Looking
Statements
This news release may contain forward-looking statements about the business, financial condition,
results of operations and earnings outlook of AIXTRON within the meaning of the "safe harbor"
provisions of the United States Private Securities Litigation Reform Act of 1995. Words such
as "may," "will," "expect," "anticipate," "contemplate," "intend," "plans," "believe,"
"continue" and "estimate," and variations of these words and similar expressions, identify
these forward-looking statements. These statements are not guarantees of future performance,
involve certain risks, uncertainties and assumptions that are difficult to predict,
and are based upon assumptions as to future events that may not prove accurate. Therefore,
actual outcomes and results may differ materially from what is expressed herein. In any
forward-looking statement in which AIXTRON expresses an expectation or belief as to future
results, such expectation or belief is expressed in good faith and believed to have a
reasonable basis, but there can be no assurance that the statement or expectation or
belief will result or be achieved or accomplished. Actual operating results may
differ materially from such forward-looking statements and are subject to certain
risks, including risks arising from: actual customer orders received by AIXTRON;
the extent to which metal-organic chemical vapor deposition, or MOCVD, technology
is demanded by the market place; the timing of final acceptance of products by customers;
the financial climate and accessibility of financing; general conditions in the thin film
equipment market and in the macro-economy; cancellations, rescheduling or delays in product
shipments; manufacturing capacity constraints; lengthy sales and qualification cycles;
difficulties in the production process; changes in semiconductor industry growth; increased
competition; exchange rate fluctuations; availability of government funding; variability
and availability of interest rates; delays in developing and commercializing new products;
general economic conditions being less favorable than expected; and other factors. The
forward-looking statements contained in this news release are made as of the date hereof
and AIXTRON does not assume any obligation to (and expressly disclaims any such obligation to)
update the reasons why actual results could differ materially from those projected in the
forward-looking statements. Any reference to the Internet website of AIXTRON is not an
incorporation by reference of such information in this news release, and you should not
interpret such a reference as an incorporation by reference of such information.
|
Zukunftsgerichtete Aussagen
Diese Pressemitteilung kann zukunftsgerichtete Aussagen über das Geschäft, die Finanz- und
Ertragslage und Gewinnprognosen von AIXTRON im Sinne der "Safe Harbor"-Bestimmungen des
US-amerikanischen Private Securities Litigation Reform Act von 1995 enthalten. Begriffe
oder Aussagen wie "das Unternehmen kann", oder "das Unternehmen wird", "erwartet",
"geht davon aus", "erwägt", "beabsichtigt", "plant", "glaubt", "fährt fort" und "schätzt",
sowie ähnliche Begriffe und Aussagen kennzeichnen diese zukunftsgerichteten Aussagen. Diese
Aussagen sind keine Garantie dafür, dass getätigte Prognosen erreicht werden. Vielmehr sind
diese Aussagen mit Risiken, Unsicherheiten und Annahmen verbunden, die schwierig vorherzusagen
sind und basieren zudem auf Annahmen über künftige Ereignisse, die sich als unzutreffend
erweisen können. Aus diesem Grunde können die tatsächlichen Ergebnisse von den hier
geäußerten Annahmen wesentlich abweichen. In einer zukunftsgerichteten Aussage, in
der AIXTRON Erwartungen oder Annahmen in Bezug auf künftige Ergebnisse zum Ausdruck
bringt, werden diese Erwartungen oder Annahmen in gutem Glauben getroffen, und es ist
davon auszugehen, dass diese auf einer angemessenen Grundlage beruht; es kann jedoch
nicht gewährleistet werden, dass die Aussage, Erwartungen oder Annahmen eintreffen bzw.
erreicht oder erfüllt werden. Das tatsächliche Betriebsergebnis kann wesentlich von
diesen zukunftsgerichteten Aussagen abweichen und unterliegt bestimmten Risiken; dazu
zählen Risiken in Verbindung mit: den tatsächlich von AIXTRON erhaltenen Kundenaufträgen;
dem Umfang der Marktnachfrage nach Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)-Technologie;
dem Zeitpunkt der endgültigen Abnahme von Anlagen durch die Kunden; der Finanzlage und
den Zugangsmöglichkeiten zu Finanzierungen; den allgemeinen Marktbedingungen für
Dünnfilmbeschichtungs-Anlagen und dem makroökonomischen Umfeld; Stornierungen,
Änderungen oder Verzögerungen bei Produktlieferungen; Einschränkungen der Produktionskapazität;
lange Verkaufs- und Qualifizierungszyklen; Schwierigkeiten im Produktionsprozess;
Änderungen im Wachstum der Halbleiterindustrie; Verschärfung des Wettbewerbs; Wechselkursschwankungen;
Verfügbarkeit von Zuwendungen der öffentlichen Hand; Zinsschwankungen bzw. verfügbare
Zinskonditionen; Verzögerungen bei der Entwicklung und Kommerzialisierung von neuen Produkten;
schlechteren allgemeinen wirtschaftlichen Bedingungen als erwartet; und anderen Faktoren.
Die in dieser Pressemitteilung enthaltenen zukunftsgerichteten Aussagen sind nur zu dem Datum
gültig, an dem sie gemacht werden, und AIXTRON übernimmt keinerlei Verantwortung (und lehnt
eine solche Verantwortung ausdrücklich ab), Erläuterungen zu aktualisieren, die erklären aus
welchen Gründen tatsächliche Ergebnisse wesentlich von denen in den zukunftsgerichteten
Aussagen gemachten Ergebnissen abweichen. Jegliche Referenz auf die AIXTRON Webseite
stellt keinen Bezug durch Verweis auf diese Informationen in dieser Pressemitteilung dar,
und eine solche Referenz sollte nicht als Bezug durch Verweis auf eine solche Information
aufgefasst werden.
|
The English text is legally binding. The German
translation is for convenience only.
Der englische Text ist rechtsverbindlich. Die deutsche Übersetzung ist
ausschließlich eine Gebrauchsübersetzung.
For further information please contact:
Investor
Relations and Corporate Communications
AIXTRON AG
Kackertstr. 15 - 17
D-52072 Aachen, Germany
Phone:+49 241 8909 444
Fax: +49 241 8909 445
E-mail: invest@aixtron.com |
|
|
© AIXTRON AG, 4. Oktober
2004
Homepage | Contact | About Aixtron | Products &
Services | Customer
Support | R &
D | Production
Results | What's
new | Events
© 1996 - 2004
by AIXTRON AG |