AIXTRON TRICENT® ANLAGE FÜR SPEICHERCHIPS DER NÄCHSTEN GENERATION IN UNIVERSITÄT MAGDEBURG INSTALLIERT

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AIXTRON TRICENT® ANLAGE FÜR SPEICHERCHIPS DER NÄCHSTEN GENERATION IN UNIVERSITÄT MAGDEBURG INSTALLIERT

Aachen/Magdeburg, Deutschland, 11. September, 2002 - AIXTRON ist hocherfreut, die Installation eines AIXTRON Tricent®-Reaktors in den neuen Reinräumen der Universität Magdeburg bekanntgeben zu können. Unter der Leitung von Prof. Dr. Edmund P. Burte werden Forschungsarbeiten hinsichtlich Strontiumwismuthtantalat (SBT) und Bleizirkoniumtitanat (PZT) durchgeführt. Dabei stehen Untersuchungen hinsichtlich neuer Ausgangsstoffe und deren physikalischer Eigenschaften im Vordergrund. Die AIXTRON Tricent®-Anlage ist eine standardisierte Produktionsplattform für Speicherchips und wird auch in der entsprechenden Grundlagenforschung eingesetzt.

Speicherchips, die den ferroelektrischen Effekt ausnutzen, sog. nicht-flüchtige ferroelektrische RAMs, sehen beeindruckenden Wachstumsperspektiven entgegen: Industrieexperten erwarten, daß sie die heutzutage verwendeten vielen verschiedenen Speichertypen ersetzen werden. Dieser neuartige Speicherchip-Typ verbindet die ultra-schnellen Lese- und Schreibgeschwindigkeiten von DRAMs mit den nicht-flüchtigen Eigenschaften von EEPROMs.

Prof. Dr. Edmund P. Burte: "Die Entdeckung von effizienteren und kostengünstigeren Ausgangsstoffen ist ein wichtiger Schritt, um das Wachstum der FeRAM Industrie voran zu bringen. Zusätzlich werden uns bessere Einblicke in die physikalischen Eigenschaften der ferroelektrischen Materialien in die Lage versetzen, diese weiter zu optimieren und auch deren Produktion kosteneffizienter durchzuführen. Wir sind davon überzeugt, daß der Tricent®-Reaktor, der auch für die Großserienproduktion geeignet ist, unsere Anstrengungen optimal unterstützen wird." Dr. Bernd Schulte, Vorstand von AIXTRON, fügt hinzu: "Wir sind stolz darauf, daß unsere Tricent®-Oxid-Anlage bei der Universität Magdeburg erste Wahl ist. Prof. Burtes Arbeitsgruppe wird mit ihrer Expertise einen großen Teil dazu beitragen unsere CVD-Technologie für die Materialien weiterzuentwickeln, die die Schlüsselkomponenten künftiger Chips für die Datenspeicher- und Datenverarbeitung sein werden. Die Tricent®-MOCVD-Anlage ist das fortschrittlichste automatisierte Cluster Tool und dabei ideal geeignet zur Herstellung von ferroelektrischen Materialien (z.B. SBT, PZT), Elektroden und high-k-Materialien für integrierte Kondensatoren und Gate-Dielektrika.

AIXTRON ist der führende Hersteller von Halbleiteranlagen für Oxide und andere komplexe Materialien. Die Tricent®-Produktlinie wurde für die Großserienproduktion von high-k Gate-Dielektrika, Kondensator-Dielektrika, Ferroelektrika, SiGe und Strained Silicon entworfen. Die Anlage ist mit einem präzise einstellbaren TriJet™-System ausgestattet, das die Handhabung flüssiger Ausgangsstoffe und deren "Flash"-Verdampfung (Kontakt) erlaubt. Weiterhin verfügt die Tricent®-Anlage über ein kontaktloses Verdampfungssystem (patentiert) und einen temperatur-kontrollierten Doppelfluss-Showerhead-Gaseinlass (patentiert) für die getrennte und höchst reproduzierbare Einführung von Ausgangsstoffen und Oxid-Agenzien. AIXTRONs gesamtes Portfolio an Produktionsanlagen einschließlich der Planeten-Reaktoren® besteht aus 7x6" Batch sowie aus 200/30mm Tricent®-Einzelwaferanlagen. Zu AIXTRONs Tricent®-Kunden zählen u.a. Fraunhofer Institute, IQE Silicon Compounds, National Nano Device Laboratories Taiwan, ST Microelectronics, University of Liverpool und Symetrix.

AIXTRON ist Weltmarkt- und Technologieführer bei Halbleiter-Epitaxieanlagen zur Herstellung für Verbindungshalbleiter (gem. VLSI Research Inc.), mit einer installierten Basis von über 650 Systemen. AIXTRON stellt seinen Kunden ein umfassendes Service Netzwerk zur Verfügung und wurde aufgrund seiner exzellenten Serviceleistungen in 2002 erneut unter die 10 besten Unternehmen (2002 10 Best) seiner Kategorie in einer Umfrage zur Kundenzufriedenheit durch VLSI Research Inc ausgezeichnet. AIXTRONs Anlagen werden weltweit von einer diversifizierten Bandbreite an Kunden eingesetzt, die damit Schlüsselkomponenten der modernen Elektronik und Photonik produzieren. Dazu gehören u.a. HBTs, pHEMTs, MESFETs, Laser, LEDs, Photodioden und VCSELs, die in Glasfaser-Netzwerken, mobiler Datenübertragung, optischer Datenspeicherung, Beleuchtungs- und Signaltechnik, vollfarbigen Riesenbildschirmen und anderen fortschrittlichen Technologien eingesetzt werden. Auf AIXTRONs Liste der Industriekunden befinden sich Agere, Alcatel, Anritsu, ATMI, Avalon, AXT, Epistar, EPSON, Honeywell, IQE, ITT, JDS-Uniphase, Kopin, LumiLeds, Mitsubishi, Motorola, Nortel, Optospeed, Osram, Procomp, Samsung, Showa Denko, Siemens, ST Microelectronics, Sumitomo, Thales, UEC, VPEC sowie zahlreiche japanische Unternehmen. AIXTRON Anlagen wurden ebenfalls installiert in zahlreichen weltbekannten Forschungseinrichtungen wie CNRS, Fraunhofer Institute, ITRI-OES, JPL, Meijo University, NDL Taiwan, FZ Jülich, RIKEN, Sandia Nat. Lab, Tsinghua University, und der University of Tokyo. Im Rahmen von Kooperationen und gemeinsamen Forschungsprojekten mit bedeutenden Partnern weltweit ist AIXTRON hochgradig engagiert, die MOCVD-Technologie weiter zu entwickeln. AIXTRON (AIX; ISIN: DE0005066203) ist im Dow Jones Sustainability Index und im MSCI Weltindex vertreten.

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